25
April
2023
【技術資料】氣相化學沉積(CVD)-高性能材料的關鍵
氣相化學沉積技術(Chemical Vapor Deposition簡稱CVD): 是一種用來產生純度高、效能好的固態材料的化學表面處理技術。
半導體產業使用此技術來成長薄膜。典型的CVD製程是將晶圓(基底)暴露在一種或多種不同的前趨物下,在基底表面發生化學反應或/及化學分解來產生欲沉積的薄膜。反應過程中通常也會伴隨地產生不同的副產品,但大多會隨著氣流被帶走,而不會留在反應腔(reaction chamber)中。